टंगस्टन वाष्पीकरण नाव
2। कैटलॉग: टंगस्टन उत्पाद
3। सामग्री: उच्च शुद्धता टंगस्टन
4। ग्रेड: W1
5। पवित्रता: 99.95% से अधिक या बराबर
6। घनत्व: 19.2 ग्राम\/सेमी।
7। विनिर्देश: 210,215,310,315,325,510,515,525
8। प्रकार: स्टैम्पिंग बोट, फोल्डेड बोट, वेल्डेड बोट, रिवेटेड बोट
9। सतह: पॉलिश सतह।
10। आवेदन: वैक्यूम वाष्पीकरण कोटिंग उद्योग, धातु वाष्पीकरण, सिंटरिंग भट्ठी, वैक्यूम एनीलिंग
11। मूल स्थान: लुओयांग, चीन
टंगस्टन वाष्पीकरण नाव पतली फिल्म जमाव प्रक्रियाओं, विशेष रूप से भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) तकनीकों जैसे वाष्पीकरण के लिए विशेष उपकरण है। इस प्रक्रिया में, टंगस्टन का उपयोग आमतौर पर धातु या अन्य सामग्री को गर्म करने और वाष्पित करने के लिए किया जाता है, जिसे एक सब्सट्रेट पर जमा करने की आवश्यकता होती है, आमतौर पर एक वैक्यूम या नियंत्रित वातावरण में।
उत्पाद विनिर्देशन
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टंगस्टन वाष्पीकरण नाव विनिर्देश |
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प्रकार |
आयाम: (t*w*l) मिमी |
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210 |
0.2*10*100 |
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215 |
0.2*15*100 |
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310 |
0.3*10*100 |
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315 |
0.3*15*100 |
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320 |
0.3*20*100 |
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510 |
0.5*10*100 |

अनुप्रयोग
अर्धचालक युक्ति विनिर्माण
टंगस्टन वाष्पीकरण नाव का उपयोग व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर प्रक्रियाओं में धातु की फिल्मों को जमा करने के लिए किया जाता है, जिसमें एल्यूमीनियम, टाइटेनियम और निकल जैसी सामग्री का वाष्पीकरण शामिल है।
ऑप्टिकल कोटिंग
ऑप्टिकल घटकों के उत्पादन में-जैसे फिल्टर, रिफ्लेक्टर, और लेंस-टंगस्टन वाष्पीकरण नावों का उपयोग उच्च परिशुद्धता ऑप्टिकल कोटिंग्स बनाने के लिए ऑक्साइड, फ्लोराइड्स और धातुओं को वाष्पित करने के लिए किया जाता है।
सौर सेल पतली फिल्में
CIGs (कॉपर इंडियम गैलियम सेलेनाइड) और CDTE जैसे पतली-फिल्म सौर कोशिकाओं के निर्माण में, हमारे उत्पादों का उपयोग धातुओं या मिश्र धातु तत्वों को वाष्पित करने के लिए किया जाता है।
सजावटी कोटिंग्स और इलेक्ट्रोप्लेटिंग विकल्प
हमारे उत्पादों का उपयोग आमतौर पर कीमती धातुओं को वाष्पित करने के लिए किया जाता है-जैसे कि सोने और चांदी-या अन्य सजावटी धातुओं को घड़ियों, मोबाइल फोन के मामलों और सजावटी भागों की सतहों को कोटिंग के लिए। पारंपरिक इलेक्ट्रोप्लेटिंग की तुलना में, वाष्पीकरण जमाव पर्यावरण मित्रता, कोई इलेक्ट्रोलाइट अवशेष और एक सघन फिल्म परत जैसे लाभ प्रदान करता है।

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